HUI WANG持有28%股权，为第一大股东。
HUI WANG 男，1961 年 11 月出生，美国国籍，拥有中国永久居留权，精密工学专业博士，上海市“浦江人才计划”获得者。1994 年 2 月至 1997
年 11 月，担任美国 Quester Technology Inc.研发部经理。1998 年 5 月至今任 ACMR 董事长、盛美上海董事长。
HAIPING DUN
男，1949 年 12 月出生，中国台湾籍，拥有美国永久居留权，材料科学与工程专业博士。1983 年至 2004 年担任英特尔公司高级总
监，2008 年至 2018 年担任虹冠电子工业股份有限公司总裁及执行董事。2003 年至今任 ACMR 董事，2005 年 5 月至今任盛美上海
董事。
STEPHEN
SUN-HAI
CHIAO
男，1948 年 4 月出生，美国国籍，无其他国家永久居留权，材料科学与工程专业博士。1977 年 1 月至 1980 年 7 月任瓦里安医疗系
统公司资深科学家，1980 年 7 月至 1983 年 9 月任美国惠普公司项目经理，1983 年 9 月至 1986 年 9 月任美国 AMI 半导体公司研发
部经理，1986 年 9 月至 2015 年 6 月任美国圣何塞州立大学教授，1989 年 9 月至 2003 年 9 月任台湾茂矽电子股份有限公司全球企
业发展部副总裁，1999 年 9 月至今任 Sycamore Management Corporation 管理合伙人。2005 年 5 月至今任盛美上海董事。
王坚
男，1965 年 2 月出生，中国国籍，无境外永久居留权，机械专业硕士、计算机科学专业硕士。1986 年 7 月至 1987 年 4 月任杭州西
湖电视机厂技术员，1996 年 4 月至 1999 年 12 月任日本富士精版印刷株式会社技术员，2001 年 12 月至 2019 年 4 月历任盛美上海
工艺工程师、副总经理，2019 年 5 月至今任盛美上海总经理，2020 年 7 月至今任盛美上海董事。成功研发无应力铜抛光和电化学镀
铜技术，参与申请发明专利 100 余项，负责多项重大科研项目。
罗千里
男，1959 年 12 月出生，中国台湾籍，无其他国家永久居留权，法学硕士。1992 年 11 月至 2001 年 1 月任美国众智律师事务所管理
合伙人，2001 年 1 月至 2017 年 7 月任中国金杜律师事务所合伙人，2017 年 7 月至今任 Sycamore Management Corporation 合伙人，
2018 年 2 月至今任美国众信律师事务所管理合伙人。2019 年 6 月至今任盛美上海董事